Skin1004 Пенка для умывания с центеллой успокаивающая

Пенка SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam удаляет загрязнения, ороговевшие клетки и излишки себума, не приводит к сухости и не вызывает ощущения стянутости. Средство очищает от мелкодисперсной пыли, смягчает и успокаивает, выравнивает тон и поддерживает оптимальный уровень увлажнённости. Слабокислотная формула с натуральными поверхностно-активными веществами на основе кокоса не нарушает естественный защитный барьер, не провоцирует раздражение. Все компоненты имеют класс безопасности EWG. Мягкая и плотная кремовая текстура легко распределяется по коже, тает и превращается в мягкую пену при соприкосновении с водой. Подходит для всех типов кожи.

Главным активным компонентом является 30% экстракт центеллы азиатской, извлечённый из растения, произрастающего в экологичном районе Мадагаскара: такая центелла содержит в 7 раз больше азиатикозида — вещества, которое повышает упругость, нормализует гидролипидный баланс, стимулирует выработку коллагена и эластина.

Экстракт центеллы заботится о чувствительной и повреждённой коже: успокаивает раздражение и покраснение, препятствует появлению сосудистой сетки, уменьшает признаки экземы и купероза, снижает реактивность.

Активные компоненты:
• экстракт какао оказывает тонизирующее и противоотечное действие, обладает антиоксидантными свойствами, ускоряет заживление;
• коко-бетаин — очищающий агент, который действует деликатно: обладает антибактериальными свойствами, удаляет загрязнения с поверхности кожи, не сушит и не раздражает, образует мягкую пенку;
• сода (Sodium Bicarbonate) деликатно очищает, нормализует баланс pH, оказывает антибактериальное действие, препятствует появлению акне;
• гиалуронат натрия — форма гиалуроновой кислоты, которая проникает глубже благодаря маленькому размеру молекул, увлажняет, повышает натуральный увлажняющий фактор (NMF), поддерживает эластичность.

Способ применения: вспеньте средство в руках, нанесите на лицо, круговыми движениями распределите по коже, смойте тёплой водой. Продолжайте уход.